Targetes de polvorització per al recobriment

Casa > Productes > Targetes de polvorització per al recobriment

Xina Niobium Sputtering Revestiment Target / Sheet / Plate / Foil

Lloc d'origen : Shaanxi, Xina (continental)
Nom de marca : YUNCH
materials : niobi
gruix de mida normal ≥ 10 mm
mida normal width≤500mm
longitud normal de longitud de 1.500 mm
Forma : rodona, placa, tub
Dimensions : tal com es personalitza
Composició química : metall
pols o no : no potència
Paraula clau : objectiu de polvorització per al revestiment de vasos
Tècnica : forja, moldre, brillant
Color : metàl·lic
Puresa : 2N8-5N
Certificació : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipus : blanc de punteig, blanc rodó,
Tolerància de la peça : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspecció : examen ultrasònic, prova de pressió d'aigua.
Aplicació : processament de la indústria pvd / coting / semiconductor
Composició química : 99,95%
Propietat1 : punt de fusió elevat
Property2 : alta resistència a la corrosió
...

Enviar la consulta Chat Now

Detalls del producte
Etiquetes populars

QQ% s es el tema 20161103134706.jpg

Descripció del producte

Nom de l'ítem	Nb objectius planus
Puresa	99,95%
Forma	objectiu pla / segons la vostra sol·licitud
Mida disponible	1. & Oslash; 30-2000 mm, gruix 3,0 mm - 300 mm 2. Adreça de plataforma: Longitud: 200-500 mm Amplada: 100-230 mm Gruix: 3--40 mm 3.Customitzat està disponible
Certificats	ISO9001: 2008, SGS, tercer informe de prova
Tècniques	Forjat i CNC mecanitzat
Superfície	Superfície del torn CNC.
Aplicació	1. galvanoplàstia; 2. Enginyeria química i tecnologia petroquímica; 3. Metge

Nom del producte	blanc pla
Origen	ciutat de Baoji, província de Shaanxi, Xina
forma	objectiu de la placa
Objectiu de la placa	60/80/120 (W) i vegades; 6/8/12 (T) i vegades; 519/525/620 (L) i 60-800 (W) i vegades; 6-40 (T) i vegades; 600-2000 (L)
Aplicació	Separació de semiconductors, materials de recobriment de films, emmagatzematge de recobriment d'elèctrodes, recobriment de polvorització, revestiment superficial, indústria de recobriment de vidre.

Objectiu de polvorització de metall pur
Alumini	Al	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	3N ~ 6N
Chronium	Cr	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	2N ~ 3N5
Circonium	Zr	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	2N2 ~ 4N
Titani	Ti	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	4N ~ 5N
Coure	Cu	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	4N ~ 5N
Molibdè	Mo	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	3N ~ 4N
Niobi	Nb	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	3N5
Tatalum	Ta	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	4N5
Tungstè	W	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	3N5
Hafnium	Hf	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	3N
Vanadium	V	pellet, objectiu rodó, pla, giratori	2N5 ~ 3N

Hot Tags: Xina Niobium Sputtering Coating Target / Sheet / Plate / Foil, Xina, fabricants, proveïdors, fàbrica, empresa, productes a l'engròs, productes

Productes relacionats

Un parell de: material objectiu rotatori tantal

Següent: Niobium (Nb) objectiu rotatiu del fabricant